近日，國(guó)家知识产权局下发《授予发明专利权通知书》，中晶科(kē)技申报的“一种低折射率疏水性 SiO2 图形化蓝宝石衬底的制备方法”获得发明专利授权。这是2023年以来公司连续获得的第三项发明专利，另有(yǒu)两项发明获得國(guó)家实用(yòng)新(xīn)型专利授权。

近年来，中晶科(kē)技研发团队坚持以市场為(wèi)导向，加大科(kē)技创新(xīn)力度，重点研发具有(yǒu)自主知识产权的新(xīn)技术与新(xīn)工艺，不断规范标准體(tǐ)系，成功研发出一系列高性能(néng)的新(xīn)产品，目前拥有(yǒu)各类专利授权39项，其中发明专利9项，实用(yòng)新(xīn)型专利30项，另有(yǒu)多(duō)项专利申请通过國(guó)家知识产权局初审。这些专利成果為(wèi)公司今后的发展积蓄了前进的动力，增强了产品的稳定性，為(wèi)公司的高质量发展提供了强有(yǒu)力的科(kē)技支撑。